该公司的 Centura Sculpta 机器——一种所谓的图案塑造系统——可以让客户减少他们花在光刻上的时间，光刻是使用光将线刻入硅的过程。应用材料公司周二（2 月 28 日）表示，光刻技术变得越来越复杂和昂贵，新方法将有助于简化芯片生产，同时减少浪费。

此举有可能破坏由 ASML 机器主导的光刻市场。尽管 Applied Materials 并未直接挑战该公司，但它正试图重新思考该行业制造芯片的方式——通过在硅盘上沉积材料制造的微型电子元件。

截至纽约时间下午 3 点 18 分，应用材料公司股价上涨 4.3% 至 116.86 美元。ASML 在阿姆斯特丹下跌 1.9% 至 584 欧元（833 新元）。

光刻使用光在晶圆上印刷图案，晶圆是用于芯片制造的闪亮圆盘。每个晶圆可能会发生此过程数十次。每一次，晶圆都要经过一个复杂的过程，沉积材料，测量以确保图案被正确印刷，然后蚀刻材料以制造晶体管和其他物品，并清洗晶圆以重新开始。

随着电路缩小到小于大多数光源波长的尺寸，该工艺的光刻阶段变得越来越困难。

ASML 的极紫外机器能够处理尖端半导体的这些任务，这对这家荷兰公司来说是一个丰厚的收入来源。自 2019 年以来，销售额几乎翻了一番，预计 ASML 今年的收入将增长 25%。将其与芯片设备行业的其他行业进行比较，由于客户应对库存过剩，芯片设备行业正在为销售收缩做准备。

ASML 的机器是该行业中最昂贵的机器之一，在该行业中，每台设备的成本很容易超过 1000 万美元。但是 ASML 的方法有缺点。芯片的某些部分需要所谓的多重图案化——在整个过程中运行两次或更多次才能达到预期的结果。

Applied Materials 的新工具，称为 Centura Sculpta，用于为第一个图案仅照射一次光，并从中雕刻出最终图案。新机器将通过使用电激活化学技术来完成这部分过程，从而消除对某些多重图案化的需要。

“我们实际上创造了一种等离子体，我们通过静电将其塑造成我们所说的带状束，”负责开发该产品的团队的史蒂文谢尔曼向路透社解释道。“我们以一定角度将其引导至晶圆，在那里我们……非常精确地以一定的精度去除材料，以改变晶圆上图案的形状。”

Sherman 说，即使消除一个光刻周期也可以节省资金、能源和水，据估计，每次在工艺中使用 Centura Sculpta，芯片制造商可以为每月可处理 100,000 片晶圆的制造设施节省约 2.5 亿美元的资本成本.

Applied Materials 执行官 Prabu Raja 在一份声明中说，这个想法是为了“补充”紫外光刻，“同时也应对先进芯片制造日益增长的经济和环境挑战”。

Cowen & Co 分析师 Krish Sankar 表示，新工具可以为应用材料公司增加 2 亿美元至 3 亿美元的年销售额，但不会在短期内削弱 ASML 的极紫外收入。

据 Applied Materials 称，如果采用该系统的芯片制造商运行一条每月可处理 100,000 片晶圆的生产线，他们将节省多达 2.5 亿美元的资本成本。每个晶圆的成本将降低约 50 美元，需要的能量减少 15 千瓦时。该公司表示，它还需要减少 15 升水，从而减少 0.35 公斤的二氧化碳排放量。

新产品的主要目标是生产所谓的高级逻辑——大量、复杂的芯片，例如用于 AI 的 Nvidia 图形处理器。只有三家公司专门从事这种类型的生产：台积电、三星电子和英特尔。

这些公司加在一起构成了芯片制造商设备支出的大部分，占应用材料和 ASML 销售额的一半以上。

Applied Materials 称英特尔是一家已经采用新方法的公司。

“英特尔将部署模式塑造能力，以帮助我们降低设计和制造成本、流程周期时间和环境影响，”英特尔高管 Ryan Russell 在声明中表示。